AFM Nanoscope V (Digital Instrument, ora Bruker)
Lo strumento in dotazione è un Nanoscope V Multimode Atomic Force Microscope (Veeco), equipaggiato con scanner PZT per scansioni da 5 nm a 140 micron e un rivelatore ottico con fotodiodo quattro quadranti. Si usano diverse miscroscopie a scansione di sonda, principalmente microscopia a forza atomica, per caratterizzare la morfologia superficiale dei campioni e altre grandezze su scala micrometrica e nanometrica.
Analizzatore di assorbimento di vapore acqueo
Strumento per misure di assorbimento e desorbimento dinamico di umidità. In particolare applicato alla datazione con reidrossilazione (ceramics rehydroxilation dating)
Analizzatore Parametrico 4210-CVU
Strumentazione per misure elettriche di capacità-voltaggio e corrente-voltaggio
Apparato di Breakthrough
Apparato di Breakthrough Alfatest. Lo strumento permette di valutare la capacità di materiali porosi di catturare selettivamente e separare gas a partire da miscele, oltre allo stoccaggio di gas.
Apparato per epitassia da fasci molecolari organici (OMBE)
Crescita di film sottili organici in condizioni controllate mediante la tecnica di deposizione da fasci molecolari organici (OMBE).
L’apparato è costituito da una camera di introduzione, una camera di metallizzazione e la camera di crescita, con quattro sorgenti per diversi materiali, completa di microbilancia al quarzo per il controllo in-situ dello spessore dei film (range da 1 Å a decine di nm). Il vuoto limite che può essere raggiunto in camera di crescita è di ~ 5x10-10 mbar tramite una criopompa . Un sistema di raffreddamento e di riscaldamento del substrato permettono di variare la temperatura del substrato in un range compreso tra 77 K e 900 K. La camera di crescita è inoltre dotata di una finestra BOMCO di quarzo per misure ottiche in-situ e in tempo reale.
L'apparato è equipaggiato da un'ulteriore camera di crescita (dotata di un'unica sorgente) che raggiunge il vuoto limite di ~ 1x10-7 mbar.
Asterix
Cluster Ibrido in architettura X86/CPU per Simulazioni computazionali
Atomic Layer Deposition (ALD)
Strumentazione per la deposizione di singoli strati atomici per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore
CLARUS 590 GC
Gas cromatografo in fase gassosa CLARUS 590 GC
Cleopatra
Infrastruttura di calcolo parallelo ad alte prestazioni per Simulazioni computazionali
Criostato magnetico per spettroscopia magneto-ottica
Spettroscopia ottica ed elettrica sotto intenso campo magnetico e a bassa temperatura
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