Grandi attrezzature di ricerca

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Diffrattometro a raggi X RAPID II Rigaku per cristallo singolo

Lo strumento permette di acquisire la figura di diffrazione di cristalli singoli (dimensioni min e max 0,1-0,5 mm) organici e inorganici allo scopo di: 1) determinare i parametri della cella elementare e il gruppo spaziale; 2) raccogliere i dati necessari a ottenere 3) le coordinate atomiche nel solido cristalllino attraverso 4) la risoluzione della struttura. Il diffrattometro è dotato di: rivelatore image plate curvo, fotomoltiplicatore per la lettura delle intensità diffratte, movimenti goniometrici, tubo a raggi X con anticatodo al molibdeno, personal computer per il controllo dello strumento e per l’elaborazione dei dati, criostato Oxford Cryosystems N700 Plus per il controllo della temperatura del campione da 80 a 490 K, software per la gestione dello strumento e per l'elaborazione dei dati. Inoltre è presente il software per l’acquisizione di dati di diffrazione da polveri microcristalline in capillare.

Edificio: U5, Piano: 1, Stanza: 1061
Responsabile scientifico: MORET MASSIMO
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Diffrattometro a raggi X Rigaku SmartLab SE 2D

Misure di diffrazione di polveri e film policristallini.

Edificio: U5, Piano: 1, Stanza: 1047
Responsabile scientifico: COMOTTI ANGIOLINA
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Diffrattometro per polveri MINIFLEX 600 HR

Analisi di fase qualitativa e quantitativa in composti policristallini

Edificio: U5, Piano: 0, Stanza: T046
Responsabile scientifico: RUFFO RICCARDO
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Ellissometro spettroscopico VASE (Woollam Inc. Corp.)

Ellissometro spettroscopico VASE (Woollam Inc. Corporation) ad angolo di incidenza variabile dotato di autoretarder e ottiche di focalizzazione dello spot (~ 200 micron) per la determinazione delle funzioni ottiche di campioni solidi.
Range spettrale: 193 nm - 1700 nm (UV-Vis-NIR)
Software di analisi: WVASE32 (Woollam Inc. Coroporation)
Configurazioni disponibili: Ellissometria in trasmissione, Ellissometria in riflessione, Misure di riflettività speculare a singolo raggio (angolo di incidenza: 15°/75°)

Edificio: U5, Piano: 0, Stanza: T044
Responsabile scientifico: SASSELLA ADELE
Voci tariffario: I.3; I.4
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Evaporatore a fascio elettronico

Preparazione di film sottili inorganici

Edificio: U5, Piano: 1, Stanza: 1032
Responsabile scientifico: NARDUCCI DARIO
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Femtosecond laser PHAROS

Laser amplificato per emissione di impulsi di luce a femtosecondi nell'infrarosso (lunghezza d'onda = 1030 nm) ad alta potenza (10 W) ed elevato rate di ripetizione (600 kHz)

Edificio: U5, Piano: PT, Stanza: T047
Responsabile scientifico: VANACORE GIOVANNI MARIA
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Laser amplificato a impulsi ultraveloci

Laser amplificato a impulsi ultraveloci

Edificio: U5, Piano: , Stanza: T064
Responsabile scientifico: MEINARDI FRANCESCO
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Macchina Zwick 1445 Universal con accessori

Misure meccaniche di materie plastiche ed elastomeri mediante dinamometro Zwick in trazione o compressione: determinazione del modulo elastico, carico a rottura, deformazione a rottura.

Edificio: U5, Piano: 0, Stanza: T070
Responsabile scientifico: SIMONUTTI ROBERTO
Voci tariffario: J.5
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Menhir

Server GPU NVIDIA A100 PowerEdge XE8545

Edificio: U8, Piano: -2, Stanza: 2I31
Responsabile scientifico: DI VALENTIN CRISTIANA
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MgO-Redox, Cluster di 21 server Opteron per il calcolo parallelo (1344 cores)

Cluster multiprocessore per calcolo parallelo

Edificio: U5 - Ratio, Piano: -1, Stanza: 029
Responsabile scientifico: PACCHIONI GIANFRANCO
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