Il micro-spettrometro Raman Labram Dilor è in configurazione back scattering ed è accoppiato confocalmente ad un microscopio. Il microscopio (BX40, Olympus) permette di analizzare selettivamente i campioni su scala micrometrica. I diversi obiettivi di cui è equipaggiato permettono sia di selezionare una area del campione di diversa grandezza sia di fare analisi a diversa profondità come nel caso di campioni multistrato, grazie alla diversa apertura numerica degli obbiettivi.
Caratteristiche:
● sorgenti laser: Ar+ a 488 nm (massima potenza 50 mW), He-Ne a 633 nm (massima potenza 20mW);
● portacampioni: stage xy motorizzato caratterizzato da una risoluzione laterale di circa 1 μm e quella verticale fino a 2 μm;
● obiettivi microscopio: 10X (0,25NA), 20X (0,4 NA), 50X (0,7 NA), 100 X (0,9 NA), 50X-LWD (long work distance, 0.75 NA);
● risoluzione dello spettrometro: 1 cm-1.
Configurazioni disponibili:
● misure a temperatura variabile (4 K ÷ 500 K) e misure di micro-luminescenza eccitata a 488 nm e 633 nm.
Applicazioni principali:
● studio di materiali per applicazioni in fotonica e optoelettronica;
● riconoscimento di fasi cristalline di pietre di interesse gemmologico;
● riconoscimento di polimeri;
● caratterizzazione di materiali a base di carbonio (carbon black, grafite, grafene, nanotubi, carbonio amorfo, diamante);
● determinazione di pigmenti inorganici;
● studio in situ e in operando di celle a combustibile e batterie.

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Misure calorimetriche gas-solido: apparato per misure di entalpia di interazione della CO2 con matrici porose.

Lo strumento in dotazione è un Nanoscope V Multimode Atomic Force Microscope (Veeco), equipaggiato con scanner PZT per scansioni da 5 nm a 140 micron e un rivelatore ottico con fotodiodo quattro quadranti. Si usano diverse miscroscopie a scansione di sonda, principalmente microscopia a forza atomica, per caratterizzare la morfologia superficiale dei campioni e altre grandezze su scala micrometrica e nanometrica.

ha una ha una sorgente in LaB6 e può lavorare a tensioni di accelerazioni comprese tra 80 e 200 kV. I pezzi polari per alta risoluzione di cui è dotato lo strumento permettono una risoluzione spaziale di 0,24 nm, che unitamente all’ampio range di tilt (+/- 45° con un porta-campioni doppio tilt di tipo standard), lo rendono estremamente versatile ed adatto a diversi tipi di indagine.

Osservazione ultrastruttura campioni biologici, nanoparticelle

Sistema per epitassia da fasci molecolari con sorgente al plasma di azoto ad alta densità

Nano-tribometro per analisi su lenti a contatto Anton Paar

Strumento per Dynamical Mechanical Analysis

Misuratore RLC (Resistenza, Induttanza, Capacità) di precisione dotato di accessorio per la misura della costante dielettrica di materiali nell’intervallo 20 Hz – 1 MHz.
Caratteristiche tecniche:
● da 20 Hz a 1 MHz test range;
● 0.05% di accuratezza base;
● alta velocità di misurazione: 15 ms.
Applicazioni principali:
● misura della costante dielettrica.

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Il profilometro a stilo Dektak 8 offre una ripetibilità di 7.5 angstrom e 1 sigma per una misurazione precisa dell'altezza di gradini con spessore da meno di 100 angstrom a 262 micron. L'opzione N-Lite permette allo stilo di applicare una forza minima di 0.03 mg (15 mg max), ottimale per la misurazione di film delicati come quelli polimerici. E' possibile misurare la rugosità sia lineare che di superficie (con elaborazione di mappe 3D) con elevata precisione, da superfici molto lisce (meno di 10 Å Ra) a superfici molto ruvide (rugosità di diverse centinaia di micron). Dimensione massima del wafer 20 mm di diametro, spessore massimo del campione 25.4 mm, lunghezza massima di scansione 50 mm, risoluzione verticale 1 Å max. Due stili disponibili, con diametro della punta di 2.5 e 12.5 micron (compatibile con stili di molte altre misure, anche submicrometrici). Per maggiori informazioni visitare il sito internet del Centro MIB-SOLAR: https://mibsolar.unimib.it/servizi-per-aziende-e-centri-di-ricerca/